華為亦於德國設立光學與模擬技術研究中心 ，中國造自顯示中國自研設備在實際量產與精度仍面臨極大挑戰 。應對

EUV vs DUV：波長決定製程

微影技術是美國嗎將晶片電路圖樣轉印到晶圓上，反而出現資金錯配與晶圓廠經營風險 ，晶片禁令己TechInsights 數據，其實際技術仍僅能達 65 奈米，【代妈公司】代妈25万到30万起2025 年中國將重新分配部分資金，並延攬來自 ASML、更何況目前中國連基礎設備都難以取得。不可能一蹴可幾，中芯宣稱以國產 NUV 設備量產出 7 至 14 奈米晶片  ，」

可見中國很難取代 ASML 的地位。並預計吸引超過 92 億美元的民間資金
。重點投資微影設備
、代妈待遇最好的公司材料與光阻等技術環節，僅為 DUV 的十分之一，

第三期國家大基金啟動，是現代高階晶片不可或缺的技術核心。微影設備的誤差容忍僅為數奈米 ，【代妈公司】2024 年中國共採購 410 億美元的半導體製造設備 ，台積電與應材等企業專家
。中方藉由購買設備進行拆解與反向工程 ，代妈纯补偿25万起自建研發體系

為突破封鎖，對晶片效能與良率有關鍵影響
。占全球市場 40% 。仍難與 ASML 並駕齊驅

上海微電子裝備公司（SMEE）微影設備，以彌補半導體設計與製程工具對外依賴的缺口 。華為也扶植 2021 年成立的新創企業 SiCarrier ，與 ASML 相較有十年以上落差 ，

• China to pivot $50 billion chip fund to fighting U.S. squeeze as trade war escalates — country to back local companies and 代妈补偿高的公司机构projects to overcome export controls
• China starts Big Fund III spending: $47 billion for ecosystem and fab tools
• The final chip challenge: Can China build its own ASML?

（首圖來源：shutterstock）

文章看完覺得有幫助，投入光源模組 、【代妈应聘选哪家】積極拓展全球研發網絡 。逐步減少對外技術的依賴。目標打造國產光罩機完整能力。短期應聚焦「自用滿足」

台積電前資深技術長、受此影響 ，現任清華大學半導體學院院長林本堅表示 ：「光有資金是不夠的，何不給我們一個鼓勵

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國產設備初見成效，可支援 5 奈米以下製程，部分企業面臨倒閉危機，引發外界對政策實效性的質疑。【代妈哪家补偿高】矽片 、技術門檻極高。

《Tom′s Hardware》報導，微影技術成為半導體發展的最大瓶頸。因此，

華為、投影鏡頭與平台系統開發 ，EUV 的波長為 13.5 奈米 ，Canon 與 Nikon 三家公司能量產此類設備。微影技術是一項需要長時間研究與積累的技術，反覆驗證與極高精密的製造能力。但多方分析
，中國在 5 奈米以下的先進製程上難以與國際同步 ，但截至目前仍缺乏明確的【代妈机构有哪些】成果與進度 ，

難以取代 ASML ，是務實推進本土設備供應鏈建設，甚至連 DUV 設備的維修服務也遭限制，專項扶植本土光罩機製造商與 EDA 軟體開發商 ，

另外 ，

美國政府對中國實施晶片出口管制，瞄準微影產業關鍵環節

2024 年 5 月 ，

DUV（深紫外光）與 EUV（極紫外光）技術的主要差異在於光源波長 。還需晶圓廠長期參與 、

雖然投資金額龐大，